Китай XCMG Walk-Behind Scrubber Dryer Производители

Группа Продуктов

Скруббер пола

Полевой мастер

Сервис онлайн

Контактное Лицо: Mr. njtws
Просмотреть контактные данные

Свяжитесь

Сканирование посетить

Главная > Каталог > Скруббер пола > Прогулка-битва скруббер сушилка > XCMG Walk-Behind Scrubber Dryer

XCMG Walk-Behind Scrubber Dryer

Добавить в корзину

Поделиться с:

Вид оплаты:	L/C,T/T
Инкотермс:	FOB,CFR,CIF,EXW
Количество минимального заказа:	1 Set/Sets

Mr. njtws

Свяжитесь

Базовая информация

Модель: XGH55XBT

марка: XCMG

Cleaning Width: 510mm

Squeegee Width: 780mm

Working Efficiency: 2050m2/h

Brush Pressure: 35KG

Brush RPM: 180RPM

Brush Motor: DC24/500 V/W

Vacuum Motor: DC24/390 V/W

Traction Motor: DC24/120 V/W

Forward Speed: 0-4.5Km/h

Machine Dimension: 1300*550*1030

Additional Info

Подробности Упаковки: Картонная упаковка

Производительность: 40-60 units per month

транспорт: Ocean,Land,Air

Место происхождения: КИТАЙ

Поддержка о: 40-60 units per month

Порт: SHANGHAI,QINGDAO,LIANYUNGANG

Вид оплаты: L/C,T/T

Инкотермс: FOB,CFR,CIF,EXW

Описание продукта

Прогулка-битва скруббер сушилка

Скруббер и сушилка с ручной пишеткой-это эффективное чистящее устройство, которое сочетает в себе промывание и сушки пола в одном, и может быстро и эффективно чистить различные твердые полы. Будь то коммерческое место, офисное здание или общественное учреждение, скруббер и сушилка для ручной камеры могут обеспечить отличные результаты очистки, что делает пол новым.

Скруббер и сушилка с ручной пишкой имеет следующие значительные преимущества:

1. Эффективная очистка:

Комбинируя промывку и сушки пола в одном, он может заполнить чистящие работы за один раз, значительно повышая эффективность очистки.

2. Удобная операция:

Дизайн ручной пилоты прост в эксплуатации и простой в использовании.

3. Хороший эффект очистки:

Он может эффективно удалять различные пятна на земле и сохранить землю чистой и сухой.

4. Широкий диапазон применения:

Он подходит для различных твердых полов, таких как плитка, мрамор, эпоксидный пол и т. Д.